Рафальский, Д.В.Дудин, С.В.Положий, К.И.2011-07-112011-07-112008Рафальский Д.В. Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Фізична інженерія поверхні. – 2008. – Том 6, № 3-4. – С. 155 – 159https://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/3846В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами. У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами. This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data.ruфизическая инженерия поверхностиимпеданс индуктораплазма низкой плотностиисточник плазмы ВЧ индукционного типаArticle