Костина, Т.В.Кот, Ю.Г.Гоэнага, М.В.Никитина, Н.А.Перский, Е.Э.2012-12-052012-12-052009Журналhttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/7302Перский In vіtro с помощью флуориметрии и ИК-спектрофотометрии исследовано влияние деформации соединительнотканных клеток кожи 3-месячных крыс при её механическом растяжении в диапазоне напряжений (0,075 – 0,18) МН/м2 на содержание шиффовых оснований в коллагене типа І, который синтезируется в этих условиях. Для выявления всех шиффовых оснований, которые могут возникнуть в коллагеновых надмолекулярных структурах, при наработке коллагена в инкубационную среду добавляли семикарбазид, аминогруппы которого путём конденсации с альдегидными группами аллизила и гидроксиаллизила образуют шиффовы основания уже в свежесинтезированном коллагене, не содержащим агрегаты молекул. Измерения спектров флуоресценции синтезированного коллагена типа І показало, что интенсивность полосы эмиссии с длиной волны 430 нм, характерной для шиффовых оснований, уменьшается при повышении напряжения в коже. В ИК-спектрах коллагена типа І проанализирована интенсивность полосы поглощения 1640 см-1, представляющая собой характеристическую частоту колебания шиффовых оснований в тройной спирали молекулы коллагена. Обнаружено, что интенсивность этой полосы поглощения в коллагене снижается с ростом напряжения, при котором он синтезируется в коже. Содержание шиффовых оснований в коллагеновых структурах обратнопропорционально величине механического напряжения в ткани и при его увеличении от 0 до 0,15 МН/м2 уменьшение их количества составляет 39,2% и 33,0% по данным флуориметрии и ИК-спектрофотометрии соответственно.ruколлаген типа Ісинтезшиффовы основанияфлуориметрияИК- спектроскопияArticle