Лисовский, В.А.2010-12-102010-12-102009Лисовский В.А. Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”. – Х.: ХНУ имени В.Н. Каразина, 2009. - 24 с.ББК 22.333я73https://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/1865Эти методические указания для лабораторных работ подготовлены для студентов физико-технического факультета, которые изучают курс “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем” на кафедре физических технологий физико-технического факультета. Лабораторные работы охватывают различные свойства высокочастотного газового разряда низкого давления (зажигание разряда в высокочастотном и комбинированном электрических полях, различные режимы горения высокочастотного разряда и т.д.).ruфизика плазмыгазовый разрядLearning Object