Вплив потенціалу зміщення на структурно-фазовий стан багатошарових покриттів AlN/CrN

Abstract

Методом іонно-плазмового осадження отримано багатошарові нітридні покриття AlN/CrN при потенціалах зміщення підкладки Uзм = 50, 100 та 200 В. Встановлено, що оптимальні морфологічні та структурні характеристики формуються при Uзм = 100 В, тоді як низький (50 В) і надвисокий (200 В) потенціали призводять до збільшення дефектності поверхні та порушення хімічної однорідності. Елементний та рентгенівський аналізи показали, що саме режим 100 В забезпечує найбільш збалансований склад та найвищу структурну впорядкованість багатошарових плівок.

Multilayer AlN/CrN nitride coatings were deposited by ion-plasma deposition at substrate bias potentials of Ub=50, 100, and 200 V. It was found that the optimal morphological and structural characteristics are achieved at Ub=100V, whereas low (50 V) and excessively high (200 V) bias potentials lead to increased surface defectiveness and reduced chemical homogeneity. Elemental and X-ray diffraction analyses confirmed that the 100 V regime provides the most balanced elemental composition and the highest structural ordering of the multilayer films.