Зміни електричного опору аморфного металу при дифузії та електроперенесенні водню

Abstract

Зміни структурного фактора (і, відповідно, електричного опору) при дифузії та електроперенесенні атомів водню в аморфних металах розраховані за допомогою чисельних методів. Вважається, що питомий електричний опір пропорційний структурному фактору. Розраховано коефіцієнт дифузії водню і швидкість електроперенесення з використанням просторових квазіодновимірних розподілів локальних змін структурного фактора при дифузії водню з нескінченно тонкого шару аморфного металу. Показано, що знак змін структурного фактора (і, відповідно, електричного опору) залежить від відношення подвійної величини хвильового вектора Фермі електронів до значення хвильового вектора, яке відповідає першому максимуму структурного фактора.Changes in the structure factor during the diffusion and electromigration of hydrogen atoms in amorphous metals are calculated using numerical methods. It is supposed that the electrical resistivity is proportional to the structure factor. The hydrogen diffusion coefficient and the velocity of electromigration are calculated using spatial quasi-one-dimensional distributions of local changes in the structure factor during the diffusion of hydrogen from an infinitely thin layer of an amorphous metal. It is shown that the sign of changes in the structure factor (and, accordingly, the electrical resistance) depends on the ratio of the double value of the Fermi wave vector of electrons to the value of the wave vector corresponding to the maximum of the first peak of the structure factor.