Перегляд за Автор "Ivko, S.V."

Зараз показуємо 1 - 2 з 2

Estafette of drift resonances in tokamak configuration with reversed-shear
(Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна, 2007) Ivko, S.V.; Shishkin, A.A.
Induced particle transport by applying perturbations of the magnetic field with low poloidal “wave” numbers is studied by means of computer simulations. Reversed-shear operation regime for tokamaks is considered. The dependence of drift rotational angle transform profile on particle energy is calculated. The range of particle energies corresponding to reversed shear profile is defined. The removal of helium test particle from the plasma core to the periphery is demonstrated. Метод управления переносом частиц под действием магнитных возмущений с малыми тороидальными волновыми числами изучаен посредством численного моделирования. Рассмотрен режим работы токамака с обращенным широм. Исследована зависимость профиля угла дрейфового прокручивания от энергии частицы. Определен диапазон энергий, соответствующих профилю угла дрейфового прокручивания с обращенным широм. Продемонстрирован вывод тестовой частицы гелия из центра плазмы на периферию.
Проходження електромагнітної хвилі крізь двошарову плазмову структуру за неоднорідності одного з шарів плазми
(Харкiвський нацiональний унiверситет iм. В.Н. Каразiна. V.N. Karazin Kharkiv National University, 2011) Денисенко, І.Б.; Івко, С.В.; Азарєнков, М.О.; Смоляков, А.І.; Denysenko, I.B.; Ivko, S.V.; Azarenkov, N.A.; Smolyakov, A.I.
Вивчається проходження р-поляризованої електромагнітної хвилі крізь двошарову плазмову структуру у випадку, коли один з шарів плазми є неоднорідним. Розглядається система з двох шарів, коефіцієнти діелектричної проникності яких мають різні знаки. Досліджується вплив неоднорідності плазми на коефіцієнт відбиття хвилі від шаруватої структури. Встановлено умови, за яких коефіцієнт відбиття хвилі від двошарової структури обертається на нуль. Показано, як неоднорідність впливає на прозорість структури. Встановлено, що неоднорідність плазми в шарі з додатною діелектричною проникністю дозволяє зменшити товщину цього шару, яка необхідна для повної прозорості структури, у порівнянні з випадком однорідної плазми. Transmission of the p-polarized electromagnetic wave through the two-layer plasma structure is studied in a case when one of the plasma layers is not uniform. The system composed of two layers with dielectric permittivities of the opposite sign is considered. The influence of the non-uniformity on the reflection coefficient of the layered structure is studied. The conditions, when the reflection coefficient equals zero, are found. It is shown that non-uniformity affects the transparency of the structure. It is determined that non-uniformity of plasma in the layer with positive dielectric permittivity allows to decrease the thickness of the layer, which is required for full transparency, in comparison with the case of uniform plasma. Изучается прохождение р-поляризованной электромагнитной волны через двухслойную плазменную структуру в случае, когда один из слоев неоднороден. Рассматривается система из двух слоев, коэффициенты диэлектрической проницаемости которых имеют противоположные знаки. Исследуется влияние неоднородности плазмы на коэффициент отражения волны от слоистой структуры. Найдены условия, при которых коэффициент отражения от двухслойной структуры обращается в ноль. Показано, что неоднородность влияет на прозрачность структуры. Установлено, что неоднородность плазмы в слое с положительной диэлектрической проницаемостью позволяет уменьшить толщину этого слоя, которая необходима для полной прозрачности структуры, в сравнении со случаем однородной плазмы.