Навчально-науковий інститут "Фізико-технічний факультет"

Постійне посилання на розділhttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/49

Переглянути

Фільтри

20101

Налаштування

Автор: search.filters.author.Береснев, В.М.Ключові слова: search.filters.subject.тонкие пленки

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения
    (Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України, 2010) Борисенко, Ю.Н.; Береснев, В.М.; Литовченко, С.В.; Шевцов, А.Б.
    Исследовано влияние облучения протонами на газовыделение в тонкоплёночной системе. Установлено, что протонное облучение инициирует образование на границе раздела плёнка-подложка мелких сферических образований, размеры которых возрастают с ростом дозы. Это объясняется выходом на границу раздела внедрённого в подложку водорода. В ходе статистической обработки микроинтерферограмм поверхности плёнки проведен расчёт силовой и энергетической характеристик адгезии плёнок к подложкам, а также получено уравнение кинетики роста пузыря на границе раздела и проделана оценка газокинетических характеристик. Досліджено вплив опромінення протонами на газовиділення в тонкоплівковій системі. З’ясовано, що протонне опромінення ініціює утворення на границі розподілу плівка-підкладинка дрібних сферичних утворень, розміри яких зростають зі зростанням дози. Це пояснюється виходом на границю розподілу водню, прониклого в підкладинку. Статистична обробка мікро- інтерферограм поверхні плівки дозволила розрахувати силову та енергетичну характеристики адгезії плівок до підкладинок, а також отримати рівняння кінетики росту пузиря на границі розподілу та зробити оцінку газокінетичних характеристик. The processes of the stimulated gas release and gas blister growth are investigated at an interface of thin-film systems. The relationship of these processes to the adhesion of a system is established. A method to determine the adhesion and to compute the adhesion characteristics in the film-substrate system is described. Using the results of this study carried out a series of practical approaches is proposed to measure the adhesion of thin films to substrates with the method of stimulated gas release.