Спектроскопическое исследование влияния деформации кожи на содержание шиффовых оснований в синтезирующемся коллагене типа I
Вантажиться...
Дата
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Харьковский Национальный Университет им. В.Н. Каразина
Анотація
Перский In vіtro с помощью флуориметрии и ИК-спектрофотометрии исследовано влияние деформации соединительнотканных клеток кожи 3-месячных крыс при её механическом растяжении в диапазоне напряжений (0,075 – 0,18) МН/м2 на содержание шиффовых оснований в коллагене типа І, который синтезируется в этих условиях. Для выявления всех шиффовых оснований, которые могут возникнуть в коллагеновых надмолекулярных структурах, при наработке коллагена в инкубационную среду добавляли семикарбазид, аминогруппы которого путём конденсации с альдегидными группами аллизила и гидроксиаллизила образуют шиффовы основания уже в свежесинтезированном коллагене, не содержащим агрегаты молекул. Измерения спектров флуоресценции синтезированного коллагена типа І показало, что интенсивность полосы эмиссии с длиной волны 430 нм, характерной для шиффовых оснований, уменьшается при повышении напряжения в коже. В ИК-спектрах коллагена типа І проанализирована интенсивность полосы поглощения 1640 см-1, представляющая собой характеристическую частоту колебания шиффовых оснований в тройной спирали молекулы коллагена. Обнаружено, что интенсивность этой полосы поглощения в коллагене снижается с ростом напряжения, при котором он синтезируется в коже. Содержание шиффовых оснований в коллагеновых структурах обратнопропорционально величине механического напряжения в ткани и при его увеличении от 0 до 0,15 МН/м2 уменьшение их количества составляет 39,2% и 33,0% по данным флуориметрии и ИК-спектрофотометрии соответственно.
Опис
Ключові слова
Бібліографічний опис
Журнал