Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”
Loading...
Date
Authors
ORCID
DOI
item.page.thesis.degree.name
item.page.thesis.degree.level
item.page.thesis.degree.discipline
item.page.thesis.degree.department
item.page.thesis.degree.grantor
item.page.thesis.degree.advisor
item.page.thesis.degree.committeeMember
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
ХНУ имени В.Н. Каразина
Abstract
Эти методические указания для лабораторных работ подготовлены для студентов физико-технического факультета, которые изучают курс
“Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем” на кафедре
физических технологий физико-технического факультета. Лабораторные работы охватывают различные свойства высокочастотного газового разряда низкого давления (зажигание разряда в высокочастотном и комбинированном
электрических полях, различные режимы горения высокочастотного разряда и т.д.).
Description
Keywords
Citation
Лисовский В.А. Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем: Методическое пособие для лабораторных работ по предмету “Физические основы ВЧ плазменно-технологических систем”. – Х.: ХНУ имени В.Н. Каразина, 2009. - 24 с.