Электронографическое исследование влияния температуры на фазообразование в тонких двухслойных пленках Ni/GaAs

Abstract

Приводятся результаты электронографического исследования фазового состава двухслойных пленок Ni— GaAs в зависимости от температуры при конденсации Ni на GaAs. Показано, что структура и число образующихся фаз зависят как от температурных условий при взаимодействии слоев Ni и GaAs, так и от соотношения между массами слоев Ni и GaAs (0,5; 1; 2). . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Наводяться результати електронографічного дослідження фазового складу двошарових плівок Ni— GaAs в залежності від температури при конденсації Ni на GaAs. Покачано, що структура та число фаз, що утворюються, залежать як від температурних умов при взаємодії шарів Ni і GaAs, так і від співвідношення між масами шарів Ni і GaAs (0,5; 1; 2). . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . The electronographic studies of double layer Ni — GaAs films’ phase content against the temperature with Ni layer deposited on GaAs substrate are given. The structure and the number of phases formed are shown to be dependent both on the temperature conditions under which Ni and GaAs layers interact and on the Ni to GaAs mass ratio: (0.5; 1; 2).