Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorРафальский, Д.В.
dc.contributor.authorДудин, С.В.
dc.contributor.authorПоложий, К.И.
dc.date.accessioned2011-07-11T08:28:14Z
dc.date.available2011-07-11T08:28:14Z
dc.date.issued2008
dc.description.abstractВ работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами. У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами. This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data.en
dc.identifier.citationРафальский Д.В. Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Фізична інженерія поверхні. – 2008. – Том 6, № 3-4. – С. 155 – 159en
dc.identifier.urihttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/3846
dc.language.isoruen
dc.publisherХарківський національний університет імені В.Н. Каразіна, Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН Україниen
dc.subjectфизическая инженерия поверхностиen
dc.subjectимпеданс индуктораen
dc.subjectплазма низкой плотностиen
dc.subjectисточник плазмы ВЧ индукционного типаen
dc.titleВозмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотностиen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
08rafvoz.pdf
Розмір:
244.97 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
7.9 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Наукові роботи. Навчально-науковий інститут "Фізико-технічний факультет"