Фізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядів

dc.contributor.authorАртюшенко, К.П.
dc.contributor.authorArtushenko, K.P.
dc.date.accessioned2019-05-11T09:37:46Z
dc.date.available2019-05-11T09:37:46Z
dc.date.issued2017
dc.descriptionДисертаційна робота присвячена розв’язанню наукового завдання, яке полягає у з'ясуванні структури і властивостей катодного шару і позитивного стовпа тліючого розряду, а також приелектродного шару і квазінейтральної плазми ВЧ ємнісного розряду. Найбільш важливою частиною тліючого розряду є катодний шар. У лабораторних і технологічних камерах низькотемпературна плазма зазвичай контактує з їх стінками, а також електродами, ленгмюрівськими зондами тощо. Між стінками розрядних камер і плазмою виникає перехідна область - приелектродний шар. Такий шар описується законом Чайльда-Ленгмюра (закон "3/2"), в якому не враховуються зіткнення позитивних іонів із молекулами газу. Для випадку руху іонів крізь шар із зіткненнями з молекулами газу в роботах інших дослідників було виведено два рівняння (за аналогією їх часто також називають рівняннями Чайльда-Ленгмюра), одне з яких передбачає рух іонів з постійною довжиною вільного пробігу  i , а друге відповідає руху іонів з постійною рухливістю i. Доцільно з'ясувати, який із законів Чайльда-Ленгмюра може використовуватися для опису характеристик катодного шару.ru_RU
dc.description.abstractArtushenko K.P. Physical processes in near-electrode sheaths and plasma of glow and radio frequency capacitive discharges. – Qualification scientific paper (manuscript). 6 Thesis for a Candidate of Science Degree in Physics and Mathematics (PhD) by speciality – plasma physics (Physics and mathematics). – V.N.Karazin Kharkiv National University, Kharkiv, 2017.ru_RU
dc.identifier.citationАртюшенко К.П. Фізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядів. – Кваліфікаційна наукова праця на правах рукопису. Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата фізико – математичних наук за спеціальністю 01.04.08 – фізика плазми (Фізико- математичні науки). – Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, Харків, 2017.ru_RU
dc.identifier.urihttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/14650
dc.language.isoukru_RU
dc.publisherХарків: ХНУ імені В. Н. Каразінаru_RU
dc.subjectResearch Subject Categories::SOCIAL SCIENCES::Social sciences::Educationru_RU
dc.subjectResearch Subject Categories::NATURAL SCIENCESru_RU
dc.subjectтліючий розрядru_RU
dc.subjectкатодний шаru_RU
dc.subjectпозитивний стовпru_RU
dc.subjectнормальний режимru_RU
dc.subjectаномальний режимru_RU
dc.subjectвисокочастотний ємнісний розрядru_RU
dc.subjectзведене електричне полеru_RU
dc.subjectglow dischargeru_RU
dc.subjectcathode sheathru_RU
dc.subjectpositive columnru_RU
dc.subjectnormal moderu_RU
dc.subjectabnormal moderu_RU
dc.subjectradio frequency capacitive dischargeru_RU
dc.subjectreduced electric fieldru_RU
dc.titleФізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядівru_RU
dc.title.alternativePhysical processes in near-electrode sheaths and plasma of glow and radio frequency capacitive dischargesru_RU
dc.typeBookru_RU

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 4 з 4
Ескіз
Назва:
aref_Artushenko.pdf
Розмір:
409.03 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ескіз
Назва:
dis_Artushenko.pdf
Розмір:
3.23 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ескіз
Назва:
opp_Maslov.pdf
Розмір:
263.49 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Ескіз
Назва:
opp_Tsiolko.pdf
Розмір:
3.46 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
7.8 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: