Фізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядів

dc.contributor.authorАртюшенко, К.П.
dc.contributor.authorArtushenko, K.P.
dc.date.accessioned2019-05-11T09:37:46Z
dc.date.available2019-05-11T09:37:46Z
dc.date.issued2017
dc.descriptionДисертаційна робота присвячена розв’язанню наукового завдання, яке полягає у з'ясуванні структури і властивостей катодного шару і позитивного стовпа тліючого розряду, а також приелектродного шару і квазінейтральної плазми ВЧ ємнісного розряду. Найбільш важливою частиною тліючого розряду є катодний шар. У лабораторних і технологічних камерах низькотемпературна плазма зазвичай контактує з їх стінками, а також електродами, ленгмюрівськими зондами тощо. Між стінками розрядних камер і плазмою виникає перехідна область - приелектродний шар. Такий шар описується законом Чайльда-Ленгмюра (закон "3/2"), в якому не враховуються зіткнення позитивних іонів із молекулами газу. Для випадку руху іонів крізь шар із зіткненнями з молекулами газу в роботах інших дослідників було виведено два рівняння (за аналогією їх часто також називають рівняннями Чайльда-Ленгмюра), одне з яких передбачає рух іонів з постійною довжиною вільного пробігу  i , а друге відповідає руху іонів з постійною рухливістю i. Доцільно з'ясувати, який із законів Чайльда-Ленгмюра може використовуватися для опису характеристик катодного шару.
dc.description.abstractArtushenko K.P. Physical processes in near-electrode sheaths and plasma of glow and radio frequency capacitive discharges. – Qualification scientific paper (manuscript). 6 Thesis for a Candidate of Science Degree in Physics and Mathematics (PhD) by speciality – plasma physics (Physics and mathematics). – V.N.Karazin Kharkiv National University, Kharkiv, 2017.
dc.identifier.citationАртюшенко К.П. Фізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядів. – Кваліфікаційна наукова праця на правах рукопису. Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата фізико – математичних наук за спеціальністю 01.04.08 – фізика плазми (Фізико- математичні науки). – Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, Харків, 2017.
dc.identifier.urihttps://ekhnuir.karazin.ua/handle/123456789/14650
dc.language.isouk
dc.publisherХарків: ХНУ імені В. Н. Каразіна
dc.subjectResearch Subject Categories::SOCIAL SCIENCES::Social sciences::Education
dc.subjectResearch Subject Categories::NATURAL SCIENCES
dc.subjectтліючий розряд
dc.subjectкатодний ша
dc.subjectпозитивний стовп
dc.subjectнормальний режим
dc.subjectаномальний режим
dc.subjectвисокочастотний ємнісний розряд
dc.subjectзведене електричне поле
dc.subjectglow discharge
dc.subjectcathode sheath
dc.subjectpositive column
dc.subjectnormal mode
dc.subjectabnormal mode
dc.subjectradio frequency capacitive discharge
dc.subjectreduced electric field
dc.titleФізичні процеси у приелектродних шарах i плазмі тліючого та високочастотного ємнісного розрядів
dc.title.alternativePhysical processes in near-electrode sheaths and plasma of glow and radio frequency capacitive discharges
dc.typeBook

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 4 з 4
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
aref_Artushenko.pdf
Розмір:
409,03 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
dis_Artushenko.pdf
Розмір:
3,23 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
opp_Maslov.pdf
Розмір:
263,49 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
opp_Tsiolko.pdf
Розмір:
3,46 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Вантажиться...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
7,8 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: